光刻行为芯片制造中最复杂、最舛错的工艺设施，其中枢迷惑光刻机被誉为 “工业王冠上的明珠”。

广东博众分析指出，现时，我国光刻机永久依赖入口，在寡头把持、工夫顽固与出口料理的多重影响下，芯片制造濒临 “卡脖子” 窘境，也限度了我国AI产业的发展，光刻机国产化长年累月。与此同期，国内关联产业禁止获取突破，正迎来黄金加速期。

光刻工艺地位舛错 光刻机市集寡头把持

芯片制造进程包含晶圆加工、氧化、光刻、刻蚀等多个伏击设施，其中光刻耗时长、资本高，是半导体芯片出产进程中最复杂且舛错的一环。其旨趣是将高能雷射光穿过光罩(reticle)，使光罩上的电路图形透过聚光镜(projectionlens) ，将影像收缩到十六分之一后成像(影像复制)在预涂光阻层的晶圆(wafer)上，而光刻机恰是这一工艺的中枢迷惑。

从市集界限来看，SEMI 数据暴露，人人半导体迷惑市集界限有望从 2022 年的 1074 亿好意思元增长到 2025 年的 1275 亿好意思元。光刻机在半导体迷惑中占比约 24%，据此预估 2024 年人人光刻机市集界限约为 315 亿好意思元。

在市集方法方面，光刻机市集呈现寡头把持态势。荷兰阿斯麦(ASML)、日本佳能(Canon)、日本尼康(Nikon)占据了绝大大批市集份额，中商产业议论院数据暴露，2022年， ASML 以 82.1% 的份额一家独大，佳能和尼康则别离占 10.2% 和 7.7%。

国产需求捏续攀升 光刻机产业迎突破

国内晶圆制造产业正加速膨胀，对光刻机的需求禁止攀升。据人人半导体不雅察统计，2023 年底中国大陆共有 31 座 12 寸晶圆厂投产，联想月产能约 118.9 万片，议论月产能 217 万片；瞻望到 2026 年底，大陆 12 英寸晶圆厂的总月产能有望超过 414 万片。

把柄《半导体制造光刻机发展分析》统计，在芯片出产产线迷惑中，光刻机购置资本占迷惑总投资的 21%-23%，光刻工艺耗时占出产枢纽的一半，制形资本占芯片制形资本的 30% 以上，足见其中枢肠位。加之 AI 产业的快速发展，国内对光刻机的需求捏续增长。

但是，我国光刻机永久依赖入口，以 ASML 为例，其 2024 年对中国大陆市集销售收入达 90 亿欧元，占其收入比重 41%。(数据起原：ASML 官网，山西证券议论所)因此，在人人科技博弈加重的配景下，加速光刻机自主研发已成为我国半导体产业崛起的必由之路。

值得容或的是，国内光刻机产业正禁止获取突破。

广东博众分析指出，2016年上海微电子90nmArF光刻机SSA600系列收尾出货。2020年华卓精科出产的光刻机双工件台，冲破了ASML公司在光刻机工件台上的工夫把持。2025年，哈尔滨工业大学官宣超过胜研制出13.5nm波长的极紫外光刻光源，这是光源工夫上备受瞩方针一项突破。中科院上海光机所得胜研发了全固态深紫外光源系统，使得中国芯片工艺股东至3纳米表面极限。举座而言，国内光刻机产业正禁止越过，国产替代空间普遍。

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